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สร้างใน 2025.12.23
2025年12月15日,光显印孟秀清博士获批并出席了《基于纳米技术的高性能金属网栅透明导电膜及前沿产业应用》2025年省双创人才项目授牌仪式,领取了荣誉证书!
光显印拥有金属网栅透明导电膜全球领先核心技术,企业核心技术源于中国科学院苏州纳米所印刷电子技术研究中心(省工程中心)团队前期承担的国家纳米先导专项、国家重点研发计划、国防等重大项目及与数十家龙头企业合作的重大成果。团队首创开发出超高深宽比(深宽比>3:1)纳米压印模具及可拉伸金属网格,完成了高透光、高导电、高环境稳定性的金属网格透明导电膜的大尺寸制备并突破了曲面兼容难题,解决了航空飞机透明窗屏蔽隐身的共性难题及行业短板,屏蔽性能相对传统ITO技术提升超过百倍、可见到红外全波段兼容,是一项革命性创新技术,已列入国家“十五五”规划及航天航空重大需求。团队将技术带到南通进行成果转化,瞄准新型金属网格透明导电膜等产业战略新材料及关键装备的国产化替代,建设打造印刷增材制造工程化服务平台及先进柔性智能制造的产业化应用,以材料、工艺、装备协同创新,把技术转化为满足客户要求的国际一流创新产品。秉承“务真求实、追求卓越,抢占纳米光电印刷制造技术科技至高点”的发展理念,为前沿产业赋能并创造经济价值。技术与成果获省市级领导的高度认可。
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